В России разработали материал для полировки пластин при производстве чипов

iXBT.com · 16.10.2026, 17:46:43

Учёные Нижегородского государственного университета имени Лобачевского запатентовали технологию глубокой очистки нанопорошка диоксида кремния, который используется при создании полировальных суспензий для производства микросхем. Разработка позволяет контролировать размер, форму и однородность частиц, а также снижать содержание примесей. Технологическая линия и регламент получения материала уже подготовлены, созданная суспензия направлена индустриальному партнёру для испытаний.